Nimi ja malli: Nabertherm R 50/500/12
Yhteyshenkilö: Vesa-Pekka Lehto
Valmistusvuosi: 2009
Asennusvuosi: 2009
Laitteen yleiskuvaus: Tube furnace for surface modification of silicon. Can be used for thermal hydrocarbonization, thermal carbonization and thermal oxidation.
Käyttö: Surface modification of (porous) siliconAnnealing of porous silicon
Tärkeimmät ominaisuudet ja lisävarusteet: Quartz tube
Tärkeimmät spesifikaatiot: Tube size Inner diameter, 34 mm, length 500, 400 and 300 mmHeated length 500 mmInstalled gasses nitrogen, acetyleneMax temperature 1200 °C
Valokuva:
Sijainti: University of Eastern Finland, Department of Physics and Mathematics, Yliopistonranta 1 F (Melania), 70211 Kuopio
Kaupunki: Kuopio
Lisätietoja: Please contact the contact person.
Varaaminen:
Oletko varma että haluat poistaa laitteen?